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光电技术
发布时间:2017-08-01 18:45:59 来源:济南青蓝光电技术有限公司 点击：
近日，由中科院光电技术研究所微电子专用设备研发团队研制成功波长254nm的实用深紫外光刻机（Mask aligner）,光刻分辨力达到500nm。Mask aligner因使用方便、效率高、成本低，一直是使用面最广、使用数量最多的一种光刻设备。在现有的微纳加工工艺中，光刻所采用的波段是决定光刻分辨力的重要因素之一。长期以来，国产Mask aligner均采用紫外波段（350nm至450nm）,分辨力只能做到1μm以上。而对于200nm至1μm的微纳器件复制，只能采用进口紫外投影光刻机，200nm以下分辨力则只能采用进口深紫外投影光刻机。该型设备的成功研制填补了国内商用化深紫外光刻机的空白，可低成本解决500nm以上器件的高效复制，具有很好的社会、经济效益。
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